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磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机镀膜原理为磁控溅射,相对化学镀膜方式,其优点为:一、膜层附着力更强,焊接后拉力测试大于10N;均匀性更好;二、磁控溅射没有针孔和凸起。化学镀膜在45倍显微镜下可看到明显的针孔、凸起。三、因生产产品过程中始终保持真空,因此无二次污染。
磁控溅射工艺优势
镀膜方式对比
除了工艺优势,磁控溅射镀膜机具备优越的生产效率,单纯镀金产能为4万+根/月,且镀膜种类多,含盖所有金属,典型镀层有Cr、Ti、Ni、Au等。还可进行混合镀膜,比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。
近几年,利来国际W66科技在生产研发过程中,积极引进磁控溅射镀膜机用于生产,生产出许多符合市场标准、工艺先进的磁控溅射镀金产品,得到了市场和客户的充分认可。近期利来国际W66科技针对磁控溅射系列产品加强了产品测试环节,提高产品标准,进行反复测试和打磨,完成了工艺优化后的磁控溅射镀金系列产品更精(工艺精湛)更强(焊接性能强、抗拉力强度高),让利来国际W66一起来看看:
金属化光纤、金属化带纤
(左:金属化光纤(左到右依次为楔形、单斜面、锥形、多斜面)右:金属化带纤)
01
焊接性能优,镀金层可承受高于300℃焊接温度
02
抗拉强度高(焊接拉力>10N)
03
镀金光纤可承受弯曲半径小
04
200倍显微镜下观察镀金层无针孔和凸起
性能优势对比
透镜光纤参数对比
镀金光纤性能对比
镀膜可靠性测试条件
平面镀金
可选基材:玻璃、蓝宝石、陶瓷、金属
应用
光通讯、激光窗口、红外成像系统、医疗设备等
优势
符合MIL-STD-883可焊性标准;金属化材料可定制:Cr、Ti、Ni、Au等
01
金属薄膜质量优 ,耐腐蚀性强
02
镀金薄膜均匀性致密,膜层光滑密实,显微镜下观察无针孔
03
高牢固度附着力(优于蒸发机),与基片结合度高,镀膜控制精准
04
镀膜有效面积:50X50mm ,金靶纯度99.99%
测试数据
行业快速发展,产品迭代的速度也越来越快,而利来国际W66科技此次进行镀金系列产品的工艺升级,是为了响应市场需求,满足客户的需要,往后利来国际W66科技将持续致力于光纤应用领域中新产品、新工艺的开发与创新,不断地为用户提供全新产品和优质服务,做用户可信赖的伙伴,为客户提供更符合市场需求的产品。
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